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标题
Exploring non-stoichiometric SiOx thin film for non-volatile memory application
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化学计量学 薄膜 材料科学 化学工程 纳米技术 化学 物理化学 工程类
网址
https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2024.173420
DOI
10.1016/j.jallcom.2024.173420 doi
其它 期刊：Journal of Alloys and Compounds
作者：Rubila Laishram; Mir Waqas Alam; Basma Souayeh; Naorem Khelchand Singh
出版日期：2024-01-03
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坚定的鼠标 在 2026-01-09 20:37:39 发布自宁夏，悬赏 10 积分
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