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High crystalline epitaxial thin films of NiO by plasma-enhanced ALD and their properties
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网址
DOI
10.1063/5.0157628 doi
其它 期刊:APL Materials
作者:Rohit Attri; Debendra Prasad Panda; J. Ghatak; C. N. R. Rao
出版日期:2023-09-01
求助人
端庄冬寒 在 2025-11-26 15:28:02 发布自福建,悬赏 10 积分
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