| 标题 |
[高分]
Exploring the limits of contact hole patterning with high-NA EUV lithography |
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| DOI |
10.1117/12.3090509
doi
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| 其它 |
期刊:Advances in Patterning Materials and Processes XLIII 作者:Dario L. Goldfarb; Zheng Chen; Yasiel Cabrera; Karen Petrillo; Joe Lee; et al 出版日期:2026-04-09 |
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(2025-6-4)