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标题
Area-selective atomic layer deposition of Al2O3 thin films for metal versus dielectric selectivity using vapor-dosed alkanethiols
网址
https://doi.org/10.1016/j.surfin.2025.106588
DOI
10.1016/j.surfin.2025.106588 doi
其它 期刊：Surfaces and Interfaces
作者：Jinseon Lee; Jiwoo Oh; Jeongbin Lee; Jeong‐Min Lee; Hyun Gu Kim; et al
出版日期：2025-04-28
求助人
Kai2022 在 2026-07-12 19:41:58 发布自江苏，悬赏 10 积分
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    领导范儿 领导范儿 Lv11 上传了文件

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  • 1天前

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  • 1天前

    Kai2022 Kai2022 Lv1 求助人 发起了本次求助

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