Remarkably enhanced plasma resistance of Y2O3- and Y-rich thin films through controllable reactive sputtering

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标题	Remarkably enhanced plasma resistance of Y2O3- and Y-rich thin films through controllable reactive sputtering
网址	https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2024.162050
DOI	10.1016/j.apsusc.2024.162050 doi
其它	期刊：Applied Surface Science 作者：Hae-Seong Jang; Kang-Bin Bae; Se-Rin Min; Yoon-Suk Oh; In-Hwan Lee; et al 出版日期：2024-12-01
求助人	adljian 在 2026-08-05 15:27:01 发布自江苏，悬赏 10 积分
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