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 Electrochemical Behavior and Thickness of Aluminium Oxide Films Studied by EIS: Laboratory and Field Studies 用EIS研究氧化铝膜的电化学行为和厚度：实验室和现场研究
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期刊：Defect and diffusion forum/Diffusion and defect data, solid state data. Part A, Defect and diffusion forum 作者：K. Habib; K. Al-Muhanna; F. Al-Sabti; A. Al-Arbeed 出版日期：2012-04-26 |
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