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Enhanced photoelectrochemical performance of Si/TiO2 with a high atomic density SiO2 buffer layer
高原子密度SiO2缓冲层增强Si/TiO2光电化学性能
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网址
DOI
10.1016/j.apsusc.2021.149712 doi
其它 期刊:Applied Surface Science
作者:Ryun Na Kim; Do Hyung Han; Hye Won Yun; Jinho Lee; Sang Ouk Ryu; et al
出版日期:2021-04-02
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星辰大海 在 2025-08-30 14:04:16 发布,悬赏 10 积分
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