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 Enhanced photoelectrochemical performance of Si/TiO2 with a high atomic density SiO2 buffer layer 高原子密度SiO2缓冲层增强Si/TiO2光电化学性能
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期刊：Applied Surface Science 作者：Ryun Na Kim; Do Hyung Han; Hye Won Yun; Jinho Lee; Sang Ouk Ryu; et al 出版日期：2021-04-02 |
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