| 标题 |
Line edge roughness (LER) reduction strategies for EUV self-aligned double patterning (SADP) EUV自对准双图案化(SADP)的线边缘粗糙度(LER)降低策略
相关领域
极紫外光刻
材料科学
光电子学
抵抗
还原(数学)
GSM演进的增强数据速率
光学
表面粗糙度
多重图案
直线(几何图形)
纳米技术
计算机科学
物理
电信
复合材料
图层(电子)
几何学
数学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊: 作者:Eric Liu; Katie Lutker-Lee; Qiaowei Lou; Ya-Ming Chen; Angelique Raley; et al 出版日期:2021-04-09 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)