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 Subresolution assist features impact and implementation in extreme ultraviolet lithography for next-generation beyond 7-nm node 相关领域
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期刊：Journal of Micro/Nanolithography MEMS and MOEMS 作者：Vivian Wei Guo; Fan Jiang; Alexander Tritchkov; Srividya Jayaram; Scott Mansfield; et al 出版日期：2018-07-31 |
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