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Subresolution assist features impact and implementation in extreme ultraviolet lithography for next-generation beyond 7-nm node
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网址
https://doi.org/10.1117/1.jmm.18.1.011003
DOI
10.1117/1.jmm.18.1.011003 doi
其它 期刊：Journal of Micro/Nanolithography MEMS and MOEMS
作者：Vivian Wei Guo; Fan Jiang; Alexander Tritchkov; Srividya Jayaram; Scott Mansfield; et al
出版日期：2018-07-31
求助人
一叶 在 2025-10-27 11:28:24 发布自贵州，悬赏 20 积分
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