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标题
Low-temperature plasma atomic layer etching of molybdenum via sequential oxidation and chlorination
网址
https://doi.org/10.1116/6.0001603
DOI
10.1116/6.0001603 doi
其它 期刊：Journal of vacuum science & technology
作者：Yebin Lee; Yong‐Jae Kim; Jiwon Son; Heeyeop Chae
出版日期：2022-01-27
求助人
崔棍er 在 2026-11-02 13:14:32 发布自山东，悬赏 10 积分
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  • 10小时前

    崔棍er 崔棍er Lv11 求助人 发起了本次求助

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