| 标题 |
Method for exposure dose monitoring and control in scanning beam interference lithography |
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| DOI |
10.1364/ao.420870
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| 其它 |
期刊:Applied Optics 作者:Ying Song; Yu-Juan Liu; Shan Jiang; Yang Zhu; Liu Zhang; et al 出版日期:2021-04-01 |
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(2025-6-4)