Design and performance of photoresist materials for ArF lithography

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标题	Design and performance of photoresist materials for ArF lithography
网址	https://doi.org/10.1117/12.436908
DOI	10.1117/12.436908 doi
其它	期刊：Advances in Resist Technology and Processing XVIII 作者：Francis M. Houlihan; Hyun-Woo Kim; Dong-Won Jung; Sook Lee; Sang-Jun Choi; et al 出版日期：2001
求助人	226一点在 2026-03-16 20:37:57 发布自江苏，悬赏 20 积分
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