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 Features of the Kinetics of Bulk and Heterogeneous Processes in CHF3 + Ar and C4F8 + Ar Plasma Mixtures CHF3+Ar和C4F8+Ar等离子体混合物中体和多相过程的动力学特征
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期刊：Russian Microelectronics 作者：Д. Б. Мурин; Alexander Efremov; Kwang‐Ho Kwon 出版日期：2019-03-01 |
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