Recent trends in thermal atomic layer deposition chemistry

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标题	Recent trends in thermal atomic layer deposition chemistry 热原子层沉积化学的最新动态相关领域原子层沉积沉积（地质）图层（电子）材料科学工程物理化学化学工程纳米技术化学物理物理地质学工程类古生物学沉积物
网址	https://doi.org/10.1116/6.0004320
DOI	10.1116/6.0004320 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Georgi Popov; Miika Mattinen; Anton Vihervaara; Markku Leskelä 出版日期：2025-03-18
求助人	CCC 在 2025-03-31 08:54:58 发布自上海，悬赏 10 积分
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