| 标题 |
 Nanometer-scale wafer surface defect measurement based on state-space digital holographic microscopy 基于状态空间数字全息显微技术的纳米级晶圆表面缺陷测量
相关领域
数字全息显微术
薄脆饼
纳米
全息术
显微镜
材料科学
晶圆规模集成
数字全息术
纳米尺度
比例（比率）
曲面（拓扑）
光学
光电子学
纳米技术
物理
复合材料
几何学
数学
量子力学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊： 作者：Shuo Geng; Lingyu Ai; Yujia Gao; Zhi Yong Gan; Yingjie Xiao; et al 出版日期：2025-02-25 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
碧蓝金针菇
代芙
Tsui
Nico
23
COSMAO
CAOHOU
Xiaoxiao
yuandashazi
Moses
鬼见愁
阿州
YifanWang
乐乐乐乐乐乐
诸葛带你做分析_yorfir
GingerF
Liufgui
鸣笛
哈基米德
eric888
皖公网安备34019202002308
