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 Influence of N2/Ar-flow ratio on crystal quality and electrical properties of ScAlN thin film prepared by DC reactive magnetron sputtering N2/Ar-流量比对直流反应性磁溅法ScAIN薄膜晶体质量和电性能的影响
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期刊：Applied Surface Science 作者：Jiancang Yang; Xiangqin Meng; Cheng‐Zen Yang; Wujun Fu 出版日期：2013-06-13 |
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