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[高分] High Rate Deposition System by Inductively Coupled Plasma Assisted Sputter-sublimation
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网址
https://doi.org/10.5695/jkise.2012.45.2.075
AI链接 re.krdoi.org
DOI
10.5695/jkise.2012.45.2.075 doi
其它 期刊：Journal of the Korean institute of surface engineering
作者：Ji-Sung Choi; Junghoon Joo
出版日期：2012-04-30
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W科研小白 在 2025-11-03 20:21:14 发布自福建，悬赏 150 积分
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