标题 |
![]() DRIE刻槽对SOI基MEMS电极场发射增强击穿的影响
相关领域
开槽
薄脆饼
材料科学
击穿电压
微电子机械系统
绝缘体上的硅
电极
光电子学
微尺度化学
深反应离子刻蚀
场电子发射
蚀刻(微加工)
电压
复合材料
硅
电气工程
反应离子刻蚀
化学
冶金
图层(电子)
物理化学
电子
数学教育
工程类
物理
量子力学
数学
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Journal of Micromechanics and Microengineering 作者:Xuan Zhang; Dayong Qiao; Yao Zhu 出版日期:2023-02-08 |
求助人 |
punctuation
在
2025-08-28 19:38:37 发布,悬赏 10 积分
|
下载 | 暂无链接,等待应助者上传 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
对不起,您需要登录才可以上传文件。
进入登录页面
科研通AI2.0
机器人 未找到该文献,机器人已退出,请等待人工下载
19:38:41 未找到该文献,机器人已退出,请等待人工下载19:38:37 科研通AI机器人(北京)收到请求,开始寻找文献19:38:37 已向机器人发送请求
punctuation
Lv7 求助人 发起了本次求助