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 Improved ferroelectric and endurance properties of Hf0.5Zr0.5O2 thin films by a replacement indium-tin-oxide top electrode process 用替代铟锡氧化物顶部电极工艺改善Hf0.5Zr 0.5 O2薄膜的铁电和耐久性能
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期刊：Journal of Physics D 作者：Jiajia Liao; Tianyue Yang; Changfan Ju; Qijun Yang; Min Liao; et al 出版日期：2023-06-01 |
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