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Low-energy O+ ion beam induced chemical vapor deposition using tetraethyl orthosilicate for silicon dioxide film formation 相关领域
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期刊:Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B Beam Interactions with Materials and Atoms 作者:Satoru Yoshimura; Satoshi Sugimoto; Takae Takeuchi; Kensuke Murai; Masato Kiuchi 出版日期:2021-12-04 |
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