SiO2 Hole Etching Using Perfluorocarbon Alternative Gas with Small Global Greenhouse Effect

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标题	SiO2 Hole Etching Using Perfluorocarbon Alternative Gas with Small Global Greenhouse Effect
网址	http://dx.doi.org/10.1143/jjap.43.3586
DOI	10.1143/jjap.43.3586 doi
其它	期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Masahiro Ooka; Shin Yokoyama 出版日期：2004-06-01
求助人	儒雅绿草在 2026-11-04 20:05:30 发布自浙江，悬赏 30 积分
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