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P20 High-NA enablement through pattern shaping technology: tip-to-tip engineering, roughness, and defectivity improvement |
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期刊:Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XV 作者:Annaëlle Demaude; Alejandro Berdonces Layunta; Viktor Kampitakis; Sara Paolillo; Matteo Beggiato; et al 出版日期:2026 |
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(2025-6-4)