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Abatement of PFCs from Semiconductor Manufacturing Processes by Nonthermal Plasma Technologies:  A Critical Review
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DOI
10.1021/ie051227b doi
其它 期刊:Industrial & Engineering Chemistry Research
作者:Moo Been Chang; Jen-Shih Chang
出版日期:2006
求助人
Yuan 在 2026-03-22 21:18:41 发布自陕西,悬赏 10 积分
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