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Investigation of In Situ SiN as Gate Dielectric and Surface Passivation for GaN MISHEMTs
网址
http://xplorestaging.ieee.org/ielx7/16/7862872/07805226.pdf?...
DOI
10.1109/ted.2016.2638855 doi
其它 期刊：IEEE Transactions on Electron Devices
作者：Huaxing Jiang; Chao Liu; Y. Chen; Xing Lu; C. Tang; et al
出版日期：2017-01-04
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Magic 在 2026-08-25 14:29:54 发布自江苏，悬赏 10 积分
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