Molecular adsorption and surface formation reactions of HCl, H2 and chlorosilanes on Si(100)-c(4 × 2) with applications for high purity silicon production

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标题	Molecular adsorption and surface formation reactions of HCl, H2 and chlorosilanes on Si(100)-c(4 × 2) with applications for high purity silicon production
网址	http://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2018.12.253
DOI	10.1016/j.apsusc.2018.12.253 doi
其它	期刊：Applied Surface Science 作者：Shwetank Yadav; Chandra Veer Singh 出版日期：2019-05-01
求助人	manying 在 2026-08-29 16:23:19 发布自天津，悬赏 10 积分
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