Characteristics of Silicon Oxide Thin Film Deposited via Remote Plasma Atomic Layer Deposition

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标题	Characteristics of Silicon Oxide Thin Film Deposited via Remote Plasma Atomic Layer Deposition
网址	http://dx.doi.org/10.1149/2162-8777/abf725
DOI	10.1149/2162-8777/abf725 doi
其它	期刊：ECS Journal of Solid State Science and Technology 作者：Chanwon Jung; Seokhwi Song; Namgue Lee; Youngjoon Kim; Eun Jong Lee; et al 出版日期：2021-04-01
求助人	房西的水在 2026-09-20 14:51:53 发布自上海，悬赏 10 积分
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