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标题
A study on dielectric characteristics of fluorinated polyimide thin film
氟化聚酰亚胺薄膜介电特性的研究
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聚酰亚胺 电介质 材料科学 热重分析 X射线光电子能谱 氟 复合材料 极化率 薄膜 极限抗拉强度 分析化学（期刊） 化学工程 高分子化学 有机化学 化学 分子 纳米技术 光电子学 图层（电子） 冶金 工程类
网址
https://doi.org/10.1016/j.jcis.2003.12.027
AI链接 nih.govdoi.org
DOI
10.1016/j.jcis.2003.12.027 doi
其它 期刊：Journal of Colloid and Interface Science
作者：Soo‐Jin Park; Ki Sook Cho; Sung Hyun Kim
出版日期：2004-04-01
求助人
大佬 在 2025-11-26 20:40:32 发布自陕西，悬赏 10 积分
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