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Investigation of non-charging exposure conditions for insulating resist films in electron beam lithography
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网址
https://doi.org/10.35848/1347-4065/abf46a
DOI
10.35848/1347-4065/abf46a doi
其它 期刊：Japanese Journal of Applied Physics
作者：Kento Kubo; Kentaro Kojima; Yoshinobu Kono; Masatoshi Kotera
出版日期：2021-04-01
求助人
张一天 在 2026-01-08 16:23:41 发布自北京，悬赏 10 积分
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