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Damage-Induced Ferroelectricity in HfOx-Based Thin Film
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铁电性 材料科学 氧化物 极化（电化学） 电介质 光电子学 物理 化学 物理化学 冶金
网址
https://doi.org/10.1109/led.2022.3162888
DOI
10.1109/led.2022.3162888 doi
其它 期刊：IEEE Electron Device Letters
作者：Kyung Kyu Min; H. Kim; Yeonwoo Kim; Changha Kim; Junsu Yu; et al
出版日期：2022-03-28
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layjmoonw 在 2026-01-09 07:08:19 发布自安徽，悬赏 10 积分
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