Enhanced nucleation mechanism in ruthenium atomic layer deposition: Exploring surface termination and precursor ligand effects with RuCpEt(CO)2

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标题	Enhanced nucleation mechanism in ruthenium atomic layer deposition: Exploring surface termination and precursor ligand effects with RuCpEt(CO)2
网址	https://doi.org/10.1116/6.0003775
DOI	10.1116/6.0003775 doi
其它	期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Amnon Rothman; Seunggi Seo; Jacob Woodruff; Hyungjun Kim; Stacey F. Bent 出版日期：2024-08-16
求助人	火星上初柳在 2026-08-14 16:42:16 发布自北京，悬赏 10 积分
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