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标题
Reactive Ion Etching Selectivity of Si/SiO2: Comparing of two fluorocarbon gases CHF3 and CF4
Si/SiO2的反应离子刻蚀选择性：两种氟碳气体CHF3和CF4的比较
相关领域
选择性 反应离子刻蚀 蚀刻（微加工） 离子 材料科学 化学 分析化学（期刊） 纳米技术 环境化学 催化作用 有机化学 图层（电子）
网址
https://repository.upenn.edu/scn_protocols/55
AI链接 upenn.edu upenn.edu
DOI
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其它 期刊：ScholarlyCommons (University of Pennsylvania)
作者：Meiyue Zhang; Pat G. Watson
出版日期：2019-01-01
求助人
shepherd 在 2025-12-03 23:51:40 发布自北京，悬赏 10 积分
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