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Reactive Ion Etching Selectivity of Si/SiO2: Comparing of two fluorocarbon gases CHF3 and CF4
Si/SiO2的反应离子刻蚀选择性：两种氟碳气体CHF3和CF4的比较
相关领域
选择性
反应离子刻蚀
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离子
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环境化学
催化作用
有机化学
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期刊：ScholarlyCommons (University of Pennsylvania) 作者：Meiyue Zhang; Pat G. Watson 出版日期：2019-01-01 |
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