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 Voltage Ramp Stress for Bias Temperature Instability Testing of Metal-Gate/High- $k$ Stacks 用于金属栅极/高$k$堆叠偏置温度不稳定性测试的电压斜坡应力
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期刊：IEEE Electron Device Letters 作者：A. Kerber; Siddarth Krishnan; E. Cartier 出版日期：2009-11-06 |
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