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标题
Investigation of the initial deposition steps and the interfacial layer of Atomic Layer Deposited (ALD) Al2O3 on Si
硅上原子层沉积Al2O3初始沉积步骤及界面层的研究
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网址
DOI
10.1016/j.apsusc.2019.06.215 doi
其它 期刊:Applied Surface Science
作者:Georgios P. Gakis; Constantin Vahlas; Hugues Vergnes; Sandrine Dourdain; Yann Tison; et al
出版日期:2019-06-22
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香菜大王 在 2025-07-07 10:11:54 发布自北京,悬赏 10 积分
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