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 EUV full-chip curvilinear mask options for logic via and metal patterning 用于逻辑过孔和金属图案化的EUV全芯片曲线掩模选项
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期刊： 作者：Neal Lafferty; Sagar Saxena; Keisuke Mizuuchi; Yuling Ma; Xima Zhang; et al 出版日期：2023-04-28 |
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