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 Enhanced performance of a n-Si/p-GaTe heterojunction through interfacial passivation and thermal oxidation 通过界面钝化和热氧化提高n-Si/p栅异质结的性能
相关领域
材料科学
钝化
异质结
热氧化
响应度
热的
光电子学
化学工程
接口（物质）
硅
纳米技术
光电探测器
复合材料
图层（电子）
气象学
毛细管作用
工程类
物理
毛细管数
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| 其它 |
期刊：Journal of Materials Chemistry C 作者：Yali Liu; Xiaoxiang Wu; Wenxuan Guo; Mengge Li; Cong Xiao; et al 出版日期：2022-01-01 |
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