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Accessible, large-area, uniform dose photolithography using a moving light source
使用移动光源的可接近、大面积、均匀剂量光刻
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网址
https://doi.org/10.1088/1361-6439/ac4005
DOI
10.1088/1361-6439/ac4005 doi
其它 期刊：Journal of Micromechanics and Microengineering
作者：Alexander Kaltashov; Prabu Karthick Parameshwar; Nicholas Lin; Christopher Moraes
出版日期：2021-12-07
求助人
huangtao 在 2025-07-30 02:12:14 发布，悬赏 10 积分
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