| 标题 |
 Accessible, large-area, uniform dose photolithography using a moving light source 使用移动光源的可接近、大面积、均匀剂量光刻
相关领域
光刻
微加工
光刻胶
平版印刷术
材料科学
紫外线
光源
光电子学
计算机科学
光学接近校正
光强度
基质（水族馆）
光掩模
紫外线
抵抗
光学
纳米技术
制作
物理
医学
海洋学
替代医学
病理
图层（电子）
地质学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of Micromechanics and Microengineering 作者：Alexander Kaltashov; Prabu Karthick Parameshwar; Nicholas Lin; Christopher Moraes 出版日期：2021-12-07 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
Theprisoners
无极微光
DW
Nole
dde
Aurora
null
潇洒的惋清
cdercder
v0id
aaaa
秋风
DOC_XIONG
学术文献互助
xing_xing
云天河
aajhajkahna
arniu2008
殷勤的紫槐
初景
皖公网安备34019202002308
