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 Residual stress measurements in electron beam evaporated yttria doped zirconia films deposited on Si (111) substrates 相关领域
氧化钇稳定氧化锆
残余应力
材料科学
立方氧化锆
电子束物理气相沉积
复合材料
压力（语言学）
兴奋剂
薄膜
化学气相沉积
纳米技术
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语言学
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：A.M. Kamalan Kirubaharan; P. Kuppusami; Sujay Chakravarty; Arul Maximus Rabel; Anandh Jesuraj Selvaraj; et al 出版日期：2017-12-04 |
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