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 Effects of gas residence time of CH4/H2 on sp2 fraction of amorphous carbon films and dissociated methyl density during radical-injection plasma-enhanced chemical vapor deposition 相关领域
分数（化学）
等离子体
碳纤维
无定形固体
无定形碳
分析化学（期刊）
停留时间（流体动力学）
化学
质量分数
材料科学
有机化学
物理
核物理学
复合数
工程类
复合材料
岩土工程
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Hirotsugu Sugiura; Lingyun Jia; Hiroki Kondo; Kenji Ishikawa; Takayoshi Tsutsumi; et al 出版日期：2018-05-25 |
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