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 The impact of crystal cut error on the measured impurity profiles resulting from ion implantation 晶体切割误差对离子注入杂质分布的影响
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期刊：IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing 作者：Y. Chen; Michael F. Morris; B. Obradovic; D. Li; A.F. Tasch; et al 出版日期：2000-05-01 |
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