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Ferroelectric HfZrOx-based MoS2 negative capacitance transistor with ITO capping layers for steep-slope device application 用于陡坡器件的具有ITO覆盖层的铁电HfZrOx基MoS2负电容晶体管
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期刊:Applied Physics Letters 作者:Jing Xu; Shuye Jiang; Min Zhang; Hao Zhu; Lin Chen; et al 出版日期:2018-03-05 |
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