| 标题 |
 Silicon Nitride Etch via Oxidation Reaction in Fluorocarbon/Oxygen Plasma: A First-Principle Study Based on Equidistant Model |
| 网址 | |
| DOI |
10.33079/jomm.18010102
doi
|
| 其它 |
期刊：Journal of Microelectronic Manufacturing 作者：Yu-Hao Tsai; Du Zhang; Mingmei Wang 出版日期：2018-01-01 |
| 求助人 | |
| 下载 |
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
Nole
Criminology34
Kao
小小牛马
cdercder
张欢馨
GingerF
有人
Essence
乐空思
东方元语
lucky
ming2026
sanvva
OK
luang
一介书生
赵赶超
dde
vampv
皖公网安备34019202002308
