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 Effects of power on ion behaviors in radio-frequency magnetron sputtering of indium tin oxide (ITO) 功率对铟锡氧化物(ITO)射频磁控溅射离子行为的影响
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期刊：Plasma Science and Technology 作者：Maoyang Li; Chaochao Mo; Jiali Chen; Peiyu Ji; Haiyun Tan; et al 出版日期：2024-03-19 |
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