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 Optimization of defect compensation for extreme ultraviolet lithography mask by covariance-matrix-adaption evolution strategy 相关领域
协方差矩阵
协方差
可操作性
稳健性（进化）
计算机科学
算法
光学（聚焦）
数学优化
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差异进化
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数学
协方差矩阵的估计
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期刊：Journal of Micro-nanolithography Mems and Moems 作者：Heng Zhang; Sikun Li; Xiangzhao Wang; Chunyan Yang; Wei Cheng 出版日期：2018-12-03 |
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