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标题
Controllable substitutional vanadium doping in wafer-scale molybdenum disulfide films
晶片级二硫化钼薄膜中的可控替代钒掺杂
相关领域
掺杂剂 材料科学 化学气相沉积 兴奋剂 单层 二硫化钼 薄脆饼 纳米技术 过渡金属 卤化物 化学工程 无机化学 光电子学 化学 冶金 催化作用 有机化学 工程类
网址
AI链接 ac.krdoi.org
DOI
10.1007/s12274-022-4945-7 doi
其它 期刊:Nano Research
作者:Jihyung Seo; Eunbin Son; Jiha Kim; Sun-Woo Kim; Jeong Min Baik; et al
出版日期:2022-09-30
求助人
嘿哟 在 2025-08-13 10:52:41 发布自宁夏,悬赏 10 积分
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  • 11个月前

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