| 标题 |
Effects of high-temperature annealing on electrical properties of Si-doped β -Ga2O3 thin films grown by low-pressure hot-wall MOCVD 相关领域
退火(玻璃)
金属有机气相外延
肖特基二极管
热离子发射
材料科学
薄膜
电阻率和电导率
肖特基势垒
化学气相沉积
二极管
大气温度范围
分析化学(期刊)
反向漏电流
宽禁带半导体
肖特基效应
光电子学
制作
外延
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Applied Physics Letters 作者:Jun Jason Morihara; M. Y. Bando; Junya Yoshinaga; Yoshinao Kumagai; Masataka Higashiwaki 出版日期:2025-10-06 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)