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标题
The Effect of Metal Masks on the Plasma Etch Rate of Silicon
金属掩模对硅等离子体刻蚀速率的影响
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网址
https://doi.org/10.1149/1.2097015
DOI
10.1149/1.2097015 doi
其它 期刊：Journal of The Electrochemical Society
作者：Theodore H. Fedynyshyn; G. Grynkewich; Bomy A. Chen; T. P.
出版日期：1989-06-01
求助人
难过的谷芹 在 2025-06-23 16:20:25 发布自河南，悬赏 10 积分
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