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Fluorination mechanisms of Al2O3 and Y2O3 surfaces irradiated by high-density CF4∕O2 and SF6∕O2 plasmas
高密度CF4/O2和SF6/O2等离子体辐照Al2O3和Y2O3表面的氟化机理
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期刊:Journal of vacuum science & technology 作者:Kyoko Miwa; Noriharu Takada; Koichi Sasaki 出版日期:2009-06-29 |
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