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Study on Influence of O2 Concentration in Wafer Cleaning Ambient for Smoothness of Silicon (110) Surface Appearing at Sidewall of Three-Dimensional Transistors
晶圆清洗环境中O2浓度对三维晶体管侧壁硅(110)表面光洁度影响的研究
相关领域
薄脆饼
湿法清洗
表面粗糙度
材料科学
分析化学(期刊)
硅
表面光洁度
化学
光电子学
复合材料
色谱法
有机化学
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其它 |
期刊:ECS transactions 作者:Tomoyuki Suwa; Akinobu Teramoto; Yoshihito Shirai; Takenobu Matsuo; Nobutaka Mizutani; et al 出版日期:2020-04-24 |
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