Ultra-shallow junction formation on 3D silicon and germanium device structures by ion energy decoupled plasma doping

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标题	Ultra-shallow junction formation on 3D silicon and germanium device structures by ion energy decoupled plasma doping
网址	http://xplorestaging.ieee.org/ielx7/7958784/7966496/07966516...
DOI	10.23919/iwjt.2017.7966516 doi
其它	期刊：International Workshop on Junction Technology 作者：Yeon Sook Kim; Hyuk-Choon Kown 出版日期：2017-06-01
求助人	kudward 在 2026-10-10 13:23:22 发布，悬赏 10 积分
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