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标题
Process–Structure–Properties Relationships of Passivating, Electron-Selective Contacts Formed by Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition of Phosphorus-Doped Polysilicon
常压化学气相沉积磷掺杂多晶硅钝化电子选择触点的工艺——结构——性能关系
相关领域
材料科学 钝化 多晶硅 退火(玻璃) 兴奋剂 化学气相沉积 薄脆饼 光电子学 薄膜 纳米技术 化学工程 图层(电子) 复合材料 薄膜晶体管 工程类
网址
DOI
10.1002/pssr.202100639 doi
求助人
cyw 在 2024-02-22 15:35:59 发布自江苏,悬赏 10 积分
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